1200℃實驗室滑軌爐PECVD系統設備
電爐型號：HS-1200H-CVD
產品介紹
功能特點：
本套PECVD系統通過滑動爐體來實現快速的升降溫，配置不同的真空系統來達到理想的真空度；同時通過多路高精度質量流量計控制不同氣體。是實驗室生長薄膜石墨烯，金屬薄膜，陶瓷薄膜，復合薄膜等的理想選擇
產品用途：
高校、科研院所用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備，生長薄膜石墨烯，金屬薄膜，陶瓷薄膜，復合薄膜等，也可作為擴展等離子清洗刻蝕使用。
產品參數
- 爐體結構：雙層爐殼間配有風冷系統，有效保證外殼表面溫；
- 爐子底部裝有一對滑軌，移動平穩
- 爐子可以手動從一端滑向另一端，實現快速的加熱和冷卻
- 爐蓋可開啟，可以實時觀察加熱的物料
- 電源電壓：AC220V 50/60Hz；
- 功率：4KW
- 爐管材質：高純石英管，高溫下化學穩定性強，耐腐蝕，熱膨脹系數極小
- 爐管尺寸：Φ60*1250mm
- 加熱系統：加熱元件采用優質合金絲0Cr27Al7Mo2，表面負荷高、經久耐用
- 加熱區長度：270mm
- 恒溫區長度：100mm
- 工作溫度：≤1150℃
- 最高溫度：1200℃
- 升溫速率：10℃/min
- 極限真空：6.0×10-5Pa
- 工作真空：7.6×10-4Pa
- 溫控系統：溫度控制采用人工智能調節技術，具有PID調節、自整定功能、30段升降溫程序
- 測溫元件：N型熱電偶
- 恒溫精度：±1℃
- 混氣系統：四路質量流量計：數字顯示、氣體流量自動控制、內置不銹鋼混氣箱，每路氣體管路均配有逆止閥、管路采用不銹鋼管，接口為Φ6卡套、每路氣體進氣管路配有不銹鋼針閥、通過控制面板上的旋鈕來調節氣體流量
- 流量規格：0~200sccm
- 流量精度：±1.5%
- 高真空真空系統：采用雙級旋片真空泵+分子泵，極限真空可達4.0*10^-4Pa
- 復合真空計，配置電阻規+電離規
- 抽速：110L/S
- 冷卻：風冷
- 射頻電源系統輸出功率:0-300W
- 功率穩定度：±0.1%
- 射頻電源頻率:13.56MHz 穩定性±0.005%
- 最大反向功率:120W
- 射頻電源電子輸出端口:UHF
- 冷卻:風冷
- 電源:AC187-253V 50/60Hz
- 可選配件：混氣系統,中、高真空系統，各種剛玉、石英坩堝，石英管，計算機控制軟件，無紙記錄儀，氧含量分析儀。
售后服務
